《中國專利與商標》雜志對投稿者的專業(yè)通常有一定的要求，但并非絕對嚴格限制。

不同雜志可能會根據(jù)不同的欄目設置或特定的主題需求，對投稿者的專業(yè)要求有所放寬或調整。具體情況可以聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

關于投稿《中國專利與商標》雜志的專業(yè)要求，可以從以下幾個方面進行參考：

1.?專業(yè)背景要求：如果專業(yè)不屬于政法領域，但研究內容與政法相關，也可以嘗試投稿。但需確保研究內容符合期刊的定位和讀者需求。

2.稿件質量要求：文章的研究主題必須圍繞《中國專利與商標》雜志的主要欄目展開。

3.語言表達：文章需用規(guī)范的學術語言撰寫，邏輯清晰，表達準確，避免因語言問題影響審稿人的判斷。

4. 突出創(chuàng)新性：在投稿時，強調論文的創(chuàng)新性和對所在領域的貢獻，即使專業(yè)背景不完全匹配，但獨特的視角和重要的發(fā)現(xiàn)也可能吸引期刊的興趣。

5. 多次嘗試：如果一次投稿未被接受，不要氣餒，可以嘗試其他合適的期刊。同時，根據(jù)審稿人的意見對論文進行修改和完善，提高后續(xù)投稿的成功率。

總體而言，期刊對投稿者的專業(yè)背景要求并不絕對，關鍵在于論文的質量、創(chuàng)新性和與期刊主題的契合度。

《中國專利與商標》雜志于1985年經(jīng)新聞總署批準出版的正規(guī)刊物，由中國專利與商標雜志社主管，中國專利與商標雜志社主辦，國際刊號：1680-6050，

《中國專利與商標》雜志以“探索政法規(guī)律，傳播政法思想，推動政法改革與發(fā)展”為宗旨，致力于成為政法領域的學術交流平臺。它主要關注政法理論與實踐的前沿問題，旨在通過發(fā)表高質量的學術論文，促進政法學科的建設與發(fā)展，為政法工作者和研究者提供理論支持和實踐指導。

該雜志被多個重要的數(shù)據(jù)庫和機構所收錄，如：維普收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等，這體現(xiàn)了其學術影響力和價值。期刊的發(fā)行范圍廣泛，不僅在國內政法領域具有重要地位，還在國際上享有一定的聲譽。

該雜志的這表明該雜志在政法領域的影響力和學術價值得到了進一步提升，這些數(shù)據(jù)綜合來看，不僅印證了《中國專利與商標》雜志在政法學術領域的權威性和重要性，也展現(xiàn)了其在推動政法學科發(fā)展和政法實踐創(chuàng)新方面所發(fā)揮的積極作用。