《Optics And Laser Technology》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Optics And Laser Technology》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Optics And Laser Technology》雜志年發(fā)文量為：1281篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對而言錄用率會高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Optics And Laser Technology》雜志在中科院的分區(qū)為2區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q1。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Optics And Laser Technology》雜志IF影響因子為：4.6。高影響力的期刊通常對論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Optics And Laser Technology》雜志簡介

中文簡稱：光學(xué)和激光技術(shù)
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱：OPT LASER TECHNOL
出版商：Elsevier Ltd
出版周期：Bimonthly
出版年份：1968年
出版地區(qū)：ENGLAND
ISSN：0030-3992
ESSN：1879-2545
研究方向：物理 - 光學(xué)

《光學(xué)與激光技術(shù)》旨在為光學(xué)和激光技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用相關(guān)的科學(xué)和工程研究領(lǐng)域提供廣泛的高質(zhì)量研究和評論論文的出版載體。描述這些領(lǐng)域原創(chuàng)工作的論文在接受出版之前要經(jīng)過嚴(yán)格的評審。

光學(xué)與激光技術(shù)的范圍包括但不限于以下領(lǐng)域：

?所有類型激光器的開發(fā)

?光電器件和光子學(xué)的開發(fā)

?新光子學(xué)和光學(xué)概念的開發(fā)

?傳統(tǒng)光學(xué)、光學(xué)儀器和組件的開發(fā)

?光學(xué)計量技術(shù)，包括干涉測量和光纖傳感器

?激光雷達(dá)和其他非接觸式光學(xué)測量技術(shù)，包括熱和流體流動中的光學(xué)方法

?激光在材料加工、光學(xué)無損檢測顯示（包括全息術(shù)）和光通信中的應(yīng)用

?激光安全領(lǐng)域的研究和開發(fā)，包括對激光應(yīng)用造成的危害的研究（激光安全、危害激光煙霧）

?光學(xué)計算和光學(xué)信息處理的發(fā)展

?新光學(xué)材料的發(fā)展

?新光學(xué)表征方法和技術(shù)的發(fā)展

?量子光學(xué)的發(fā)展

?光輔助微納米制造方法和技術(shù)的發(fā)展

?納米光子學(xué)和生物光子學(xué)的發(fā)展

?成像處理和系統(tǒng)的發(fā)展

在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為物理與天體物理2區(qū)， 小類學(xué)科為OPTICS光學(xué)2區(qū)。

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