摘要:采用溶劑蒸發技術,輔以氬保護氣氛,成功獲得厘米級氯摻雜γ-CuI透明單晶。研究了氯摻雜對晶體生長溶液的穩定性、晶體結構及發光性能的影響。通過引入氬氣氛,摻氯生長液及晶體的氧化問題得到了極大改善。X射線激發發射光譜表明,γ-CuI:Cl晶體的超快近帶邊發射得到顯著增強,光輸出約為PbWO4晶體的89%,深能級發射強度也受到極大抑制。并且快成分的衰減時間達到亞納秒量級。實驗結果均表明γ-CuI:Cl單晶具有較好的結晶性和光學性能,有望應用于超高輻射檢測和超快計數率成像領域。
注:因版權方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。
人工晶體學報雜志, 月刊,本刊重視學術導向,堅持科學性、學術性、先進性、創新性,刊載內容涉及的欄目:研究快報、研究論文、綜合評述、封面圖片等。于1972年經新聞總署批準的正規刊物。